2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

3 光・フォトニクス » 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学

[18p-P9-1~34] 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学

2018年3月18日(日) 16:00 〜 18:00 P9 (ベルサール高田馬場)

16:00 〜 18:00

[18p-P9-18] Si上のフェムト秒レーザー励起表面プラズモンの伝搬損失

宮地 悟代1、萩谷 将人1 (1.東京農工大)

キーワード:表面プラズモンポラリトン、フェムト秒レーザー加工、シリコン

表面プラズモン(SPP)に付随した高強度の近接場を利用すると、アブレーションによってナノ加工が可能である。したがって、より制御よく加工を行うためにはSPPの特性を明らかにすることが必須である。そこで、本研究ではSPPの伝搬特性を理解するため、共鳴曲線の半値全幅を調べた。その結果、高いフルーエンスFでは半値全幅が減少した。これは、高いFによって内部損失の少ないSPPが励起できることを示している。