[18p-P9-1~34] 3.12 Nanoscale optical science and near-field optics

[18p-P9-23] Adjustment of internal stress in Au nanograting

〇Yuji Koto¹, Takuya Kinoshita², Takashi Shimura², Kentaro Iwami², Norihiro Umeda² (1.Sch. Eng. Tokyo Univ. of Agri. and Tech., 2.Grad. Sch. Eng. Tokyo Univ. of Agri. and Tech.)

Keywords:Au nanograting, internal stress

本研究では，金ナノグレーティングに生じる内部応力について報告する．成膜前のガラス基板の表面，Si成膜後の表面，Au/Cr成膜後の表面の湾曲を触針式段差計で測定し，得られた形状からStoneyの式を用いて内部応力を算出した．Si膜厚が小さくなるほど，薄膜の内部応力が減少し，Si膜厚100 nm付近で内部応力が0になることが明らかになった．したがって，Si膜厚100 nmでグレーティング構造を製作すると湾曲が改善できると考えられる．