[18p-P9-1~34] 3.12 ナノ領域光科学･近接場光学

[18p-P9-23] 金ナノグレーティングに生じる内部応力の調整

〇湖東 裕士¹、木下 卓哉²、志村 崇²、岩見 健太郎²、梅田 倫弘² (1.農工大工、2.農工大院工)

キーワード：金ナノグレーティング、内部応力

本研究では，金ナノグレーティングに生じる内部応力について報告する．成膜前のガラス基板の表面，Si成膜後の表面，Au/Cr成膜後の表面の湾曲を触針式段差計で測定し，得られた形状からStoneyの式を用いて内部応力を算出した．Si膜厚が小さくなるほど，薄膜の内部応力が減少し，Si膜厚100 nm付近で内部応力が0になることが明らかになった．したがって，Si膜厚100 nmでグレーティング構造を製作すると湾曲が改善できると考えられる．