2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[19a-A404-1~9] 3.7 レーザープロセシング

2018年3月19日(月) 09:00 〜 11:45 A404 (54-404)

佐藤 正健(産総研)、中村 大輔(九大)

09:15 〜 09:30

[19a-A404-2] 液中レーザーアブレーションによるMoS2ナノ粒子作製におけるパルス幅および溶媒の効果

〇(M1)金澤 誠1、コインカー パンカジ1、古部 昭広1、マヘンドラ モレ2 (1.徳大理工、2.プネ大)

キーワード:レーザーアブレーション、MoS2、フェムト秒レーザー

液中レーザーアブレーション(Pulsed laser ablation in liquid; PLAL)を使って二次元ナノ材料MoS2のナノ粒子作製を行った。PLALではパルス幅、照射時間、溶媒が作製されるナノ粒子の形状に影響を与えるため、各実験条件に注目し系統的な評価を目指した。その結果、パルス幅を変えることでナノ粒子の形状や粒径分布に違いが確認できた。また、溶媒を変えて得られた実験結果の比較からは新たな知見も得られた。