[19a-B201-1~8] 3.15 シリコンフォトニクス

[19a-B201-2] レーザー溶融結晶化による石英基板上引張歪み単結晶GeSnアレイの作製

〇岡 博史¹、黒木 伸一郎²、細井 卓治¹、志村 考功¹、渡部 平司¹ (1.阪大院工、2.広大RNBS)

キーワード：ゲルマニウムスズ、レーザーアニール、石英基板