2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.6 超高速・高強度レーザー

[19a-B301-1~11] 3.6 超高速・高強度レーザー

2018年3月19日(月) 09:00 〜 12:00 B301 (53-301)

足立 俊輔(京大)

10:45 〜 11:00

[19a-B301-7] 二色円偏光合成電場よるキラル分子からの円偏光高次高調波発生

原田 要一1、原口 英介1、芝 悠真1、金島 圭佑1、〇関川 太郎1 (1.北大工)

キーワード:高次高調波、キラル分子

我々は、キラル分子からの円偏光高次高調波発生にキラリティー依存性が表れることを期待し、キラル分子であるリモネン分子からの円偏光高次高調波スペクトルを観測した。中心波長が800 nmと400 nmの円偏光パルスを用いた場合、3m+1次と3m+2次の強度比が円偏光の向きにより変わることを見いだした。また、鏡像異性体を用いても強度比が変わった(2017年秋の学術講演会)。これらの結果は、円偏光高次高調波発生過程に分子のキラリティーが関与していることを示唆している。逆に、高次高調波スペクトルの測定により、分子のキラリティーを区別できる可能性を示す。本講演では、高次高調波発生において円二色性が現れる機構を定性的に議論する。