2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[19a-C101-1~10] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2018年3月19日(月) 09:15 〜 11:45 C101 (52-101)

角嶋 邦之(東工大)

09:45 〜 10:00

[19a-C101-3] エラストマーナノシートを用いたプラズモニックカラーフィルタの製作

熊谷 隼人1、高橋 功2、武岡 真司2,3、澤田 和明1、藤枝 俊宣2,3、髙橋 一浩1,3 (1.豊橋技科大、2.早大、3.JST さきがけ)

キーワード:エラストマー、表面プラズモン、カラーフィルタ

プラズモニックカラーフィルタとは表面プラズモンを利用した回折格子であり、格子周期に依存した波長選択性が得られる。本研究は、38%の弾性変形領域を有するポリスチレン‐ポリブタジエン‐ポリスチレンを用いて、膜厚数百nmの自立プラズモニックカラーフィルタを製作した。微細格子は集束イオンビームで形成した。光学測定では、表面プラズモン共鳴の理論値に一致した透過/反射ピークと色が得られた。