2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[19a-C201-1~11] 8.3 プラズマナノテクノロジー

2018年3月19日(月) 09:00 〜 12:00 C201 (52-201)

竹中 弘祐(阪大)、石島 達夫(金沢大)

11:15 〜 11:30

[19a-C201-9] 高圧噴射を用いた液中プラズマによる微粒化技術の高度化

村山 誠悟1、岩坪 聡1、近藤 兼司1、原島 謙一2、徳道 世一2 (1.富山工技センター、2.スギノマシン)

キーワード:ナノ、微粒化装置、分散

高圧湿式微粒化装置による分散処理では、高圧噴射時に急激な圧力変化が起こるためキャビテーション気泡が大量に発生する。今回開発した液中プラズマチャンバーは、これらのキャビテーション気泡を液中プラズマの発生に利用することでプラズマ発生効率の向上と凝集物の効果的な微粒化が望める。液中プラズマチャンバーでカーボンナノチューブを分散処理した結果、メジアン径は従来よりも小さくなり、ゼータ電位の絶対値は従来よりも大きくなった。