2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

CS コードシェアセッション » CS6 10.1 新物質・新機能創成(作製・評価技術),10.2 スピン基盤技術・萌芽的デバイス技術,10.3 スピンデバイス・磁気メモリ・ストレージ技術のコードシェアセッション

[19a-D104-1~11] CS6 10.1 新物質・新機能創成(作製・評価技術),10.2 スピン基盤技術・萌芽的デバイス技術,10.3 スピンデバイス・磁気メモリ・ストレージ技術のコードシェアセッション

2018年3月19日(月) 09:00 〜 12:00 D104 (56-104)

野崎 友大(東北大)

09:00 〜 09:15

[19a-D104-1] [Young Scientist Presentation Award Speech] Voltage control of perpendicular magnetic anisotropy in Fe/MgAl2O4 heterostructures

Qingyi Xiang1,2、Hiroaki Sukegawa1、Muftah Al-Mahdawi1、Mohamed Belmoubarik1、Shinya Kasai1、Yuya Sakuraba1、Seiji Mitani1,2、Kazuhiro Hono1,2 (1.NIMS、2.Univ. of Tsukuba)

キーワード:VCMA, MgAl2O4, thin films

Voltage-controlled magnetic anisotropy (VCMA) in magnetic heterostructures are expected to be a key for approaching next generation low-power consumption spintronic devices such as voltage-controlled magnetoresistive random access memories (MRAMs). For practical high-density memory applications, large interface perpendicular magnetic anisotropy (PMA) energy Ki and voltage control of magnetic anisotropy (VCMA) coefficient β, i.e., Ki > 2-3 mJ/m2 and β > 1000 fJ/(Vm), are required. To achieve such a large VCMA effect, investigating the origin of the VCMA effect using ideal PMA heterostructures without any interfacial defects appears to be necessary. In this study, we focused on the ultrathin-Fe/MgAl2O4(001) epitaxial interfaces to achieve high Ki and Ki. Especially, we investigated the Fe thickness dependence of VCMA using Fe/MgAl2O4/CoFeB orthogonally magnetized MTJs. We report that only a monolayer thickness difference has a significant impact on the PMA energy and VCMA effect.