2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[19a-E202-1~10] 15.4 III-V族窒化物結晶

2018年3月19日(月) 09:00 〜 11:45 E202 (57-202)

小林 篤(東大)、関口 寛人(豊橋技科大)

10:45 〜 11:00

[19a-E202-7] 深紫外レーザにおける組成傾斜AlGaNクラッド層の検討

川瀬 雄太1、池田 隼也1、袴田 淳哉1、林 貴文1、岩山 章1、岩谷 素顕1、竹内 哲也1、上山 智1、赤﨑 勇1,2 (1.名城大理工、2.名古屋大)

キーワード:窒化アルミニウム

Ⅲ族窒化物におけるMgを添加した高AlNモル分率・高正孔濃度を有したp型AlGaNは実現することが難しく、端面発光型紫外レーザの発振波長は326 nmにとどまっている。
本研究グループでも組成傾斜AlGaNを用いることによって、室温で高い正孔濃度が得られることや紫外LEDの高性能化に有用であることを報告してきた。本発表では、組成傾斜構造クラッド層のAlNモル分率を変更して作製した。