2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

12 有機分子・バイオエレクトロニクス » 12.1 作製・構造制御

[19a-G205-1~9] 12.1 作製・構造制御

2018年3月19日(月) 09:00 〜 11:30 G205 (63-205)

鈴木 龍樹(海洋機構)

10:30 〜 10:45

[19a-G205-6] 静電塗布法を用いたペロブスカイトナノ粒子の生成

竹内 啓太1、上田 裕之1、寺田 諒1、五十嵐 佳苗1、安部 僚吾1、菊池 昭彦1,2 (1.上智大理工、2.上智ナノテクセンター)

キーワード:ペロブスカイト、静電塗布法、ナノ粒子

ペロブスカイト半導体は優れた光学特性を有し、簡便な溶液によって低コストで作製できることから、太陽電池や発光ダイオードへの応用が期待される魅力的な材料である。本研究では、静電塗布法でペロブスカイト原料を含む微細液滴を噴霧し、溶媒乾燥によりペロブスカイトナノ粒子を生成する手法について検討を行った。