[19a-P6-1~79] 17 ナノカーボン（ポスター）

[19a-P6-52] 酸化グラフェン，酸化グラフェン還元体を触媒としたSi基板のケミカルエッチング

〇(M1)石塚 隆高¹、宇都宮 徹¹、一井 崇¹、杉村 博之¹ (1.京大院工)

キーワード：グラフェン、酸化グラフェン、エッチング

Modified Hummers法によって作製した酸化グラフェン（GO）を，水素終端化したn型Si（111）基板上に担持した．この基板に真空チャンバー内で真空紫外（VUV）光を照射して酸化グラフェン還元体（rGO）とした後，エッチング液に浸漬した．得られた表面形状をAFMにより観察した結果，GO，rGO共にSi基板に沈み込むこととrGOの方がより深く沈み込むことが示唆された．