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[19a-P6-52] 酸化グラフェン,酸化グラフェン還元体を触媒としたSi基板のケミカルエッチング
キーワード:グラフェン、酸化グラフェン、エッチング
Modified Hummers法によって作製した酸化グラフェン(GO)を,水素終端化したn型Si(111)基板上に担持した.この基板に真空チャンバー内で真空紫外(VUV)光を照射して酸化グラフェン還元体(rGO)とした後,エッチング液に浸漬した.得られた表面形状をAFMにより観察した結果,GO,rGO共にSi基板に沈み込むこととrGOの方がより深く沈み込むことが示唆された.