PDF ダウンロード スケジュール 17 いいね! 2 コメント (0) 09:30 〜 11:30 [19a-P6-66] トランジスタ応用を目指したHfS2薄膜のCVD合成 〇椎葉 俊明1、Aji Adha Sukma1、末永 健志朗1、河原 憲治2、吾郷 浩樹1,2 (1.九大総理工、2.九大GIC) キーワード:層状物質、二次元物質、二硫化ハフニウム