The 65h JSAP Spring Meeting, 2018

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17 Nanocarbon Technology » 17 Nanocarbon Technology(Poster)

[19a-P6-1~79] 17 Nanocarbon Technology(Poster)

Mon. Mar 19, 2018 9:30 AM - 11:30 AM P6 (P)

9:30 AM - 11:30 AM

[19a-P6-67] Chemical vapor deposition of WS2 by using H2S and WF6 gas sources

Naoya Okada1, W. H. Chang1, Kenji Koga1, Toshifumi Irisawa1 (1.AIST)

Keywords:WS2, CVD

LSIプロセスに適用可能なH2SとWF6によるガスソースCVD法において、ウェハスケールで均一で良好な結晶性を有するWS2の合成を確認した。