[19a-P6-1~79] 17 Nanocarbon Technology（Poster）

[19a-P6-67] Chemical vapor deposition of WS₂ by using H₂S and WF₆ gas sources

〇Naoya Okada¹, W. H. Chang¹, Kenji Koga¹, Toshifumi Irisawa¹ (1.AIST)

Keywords:WS2, CVD

LSIプロセスに適用可能なH₂SとWF₆によるガスソースCVD法において、ウェハスケールで均一で良好な結晶性を有するWS₂の合成を確認した。