2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[19p-A404-1~19] 3.7 レーザープロセシング

2018年3月19日(月) 13:15 〜 18:45 A404 (54-404)

吉田 岳人(阿南高専)、寺川 光洋(慶大)

18:30 〜 18:45

[19p-A404-19] 混晶によるZnOマイクロ結晶球WGMレーザーの短波長化

脇山 祐一朗1、田崎 涼平1、東畠 三洋1、諏訪 輝2、池上 浩1,2、N.J. Vasa3、M.S.R Rao3、中村 大輔1 (1.九大シス情、2.九大 ギガフォトンNEXT GLP、3.インド工科大学マドラス校)

キーワード:ZnOマイクロスフィア、レーザーアブレーション

酸化亜鉛(ZnO)は大きなバンドギャップエネルギーと励起子束縛エネルギーを持つ化合物半導体であり、紫外発光材料として注目されている。ZnOは酸化マグネシウム(MgO)との混晶を形成することで、バンドギャップが変化することが知られている。我々はレーザーアブレーション法を利用したZnOマイクロスフィアの作製と紫外Whispering-Gallery-Mode(WGM)レーザー発振を実現してきた。本研究ではZnMgOマイクロスフィアの作製と紫外WGMレーザー発振波長の短波長化を試みた。