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一般セッション(口頭講演)

11 超伝導 » 11.1 基礎物性

[19p-B401-1~10] 11.1 基礎物性

2018年3月19日(月) 13:15 〜 16:00 B401 (53-401)

八巻和宏(宇都宮大)、作間啓太(成蹊大)

13:30 〜 13:45

[19p-B401-2] 分子線エピタキシー法によるT'-La₂CuO₄への正孔ドーピングに向けた研究

〇稲葉颯人¹、岡本拓也¹、内藤方夫¹ (1.農工大工)

キーワード：分子線エピタキシー、銅酸化物、薄膜成長