The 65h JSAP Spring Meeting, 2018

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Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.1 Ferroelectric thin films

[19p-C104-1~19] 6.1 Ferroelectric thin films

Mon. Mar 19, 2018 1:15 PM - 6:30 PM C104 (52-104)

Tomoaki Yamada(Nagoya Univ.), Yoshiomi Hiranaga(Tohoku Univ.), Ken-ichi Mimura(AIST)

6:15 PM - 6:30 PM

[19p-C104-19] Effect of the chemical composition on the electrical and magnetic properties of YbFe2O4 thin films

Jyunpei Tanaka1, Kohei Miura1, Daisuke Kiriya1, Takeshi Yoshimura1, Atsushi Ashida1, Norihumi Fujimura1 (1.Osaka pref. univ.)

Keywords:RFe2O4, charge order, strong correlated material

RFe2O4(R:希土類元素)は、結晶内に同数のFe2+とFe3+が三角格子状に存在しているため電荷のフラストレーションが生じ、電子密度に極性を有する電荷秩序構造が形成する電子強誘電体である 。我々はこれまでにパルスレーザー堆積(PLD)法を用いてYbFe2O4エピタキシャル薄膜の作製に成功し、その電気的特性を報告してきた。それらをエネルギー分散型X線分析によって組成分析した結果、エピタキシャル薄膜であるにもかかわらずFe/Yb=1.2~1.8とFe欠損状態であった。本研究では、YbFe2O4エピタキシャル薄膜において、Fe/Yb組成の変化が電気的、磁気的特性に与える影響について報告する