2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[19p-C302-1~18] 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2018年3月19日(月) 13:45 〜 18:30 C302 (52-302)

牧山 剛三(富士通研)、加藤 正史(名工大)

16:15 〜 16:30

[19p-C302-10] フィールドプレート構造AlGaN/GaN HEMTの電流コラプス改善に関する理論解析

〇(PC)児玉 和樹1、Joel Asubar1、徳田 博邦1、葛原 正明1 (1.福井大院工)

キーワード:AlGaN/GaN HEMT、電流コラプス、モンテカルロ解析

AlGaN/GaN HEMTは高耐圧、低損失の次世代パワースイッチング素子への応用が期待されている。しかし、電流コラプスによるオン抵抗の増加が重要な問題となっている。これを抑制する方法として、フィールドプレート構造を用いられているが、その機構に関する理解はなされていない。本研究では、AlGaN/GaN HEMTの2 次元アンサンブルモンテカルロデバイス解析を行い、非常に短いオン時間でのフィールドプレート構造が電流コラプスに与える影響を検討し、フィールドプレートの電流コラプス改善効果を確認した。