[19p-F206-1~10] 6.2 カーボン系薄膜

[19p-F206-5] 成膜時のプラズマ周波数制御による光学ギャップ可変シリコン添加アモルファスカーボン太陽電池の化学結合状態の最適化および出力特性の向上

〇清水 優太¹、脇 優太¹、斎藤 佑¹、楢木野 宏¹、本多 謙介¹ (1.山口大学)

キーワード：太陽電池、炭素材料

本研究では多接合型太陽電池への応用に向けてプラズマ化学気相成長法により作製可能なn型Si添加アモルファスカーボン(a-C)薄膜/p-Siヘテロ接合太陽電池の開発を行った。Si添加a-C薄膜中のsp²クラスターは変換効率の低下の要因となる。本研究では、成膜時のプラズマ周波数を上昇させsp²クラスターを低減することでSi添加a-C/p-Siヘテロ接合太陽電池の変換効率の向上を図った。