2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[19p-P5-1~39] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2018年3月19日(月) 13:30 〜 15:30 P5 (ベルサール高田馬場)

13:30 〜 15:30

[19p-P5-13] ウェットプロセスによる酸化タンタル薄膜の作製と抵抗変化型メモリへの応用

東 正挙1、西郷 太輔1、番 貴彦1、山本 伸一1 (1.龍大理工)

キーワード:抵抗変化メモリ