2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[20a-B401-1~6] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2018年3月20日(火) 10:30 〜 12:00 B401 (53-401)

山本 治朗(日立)

10:30 〜 10:45

[20a-B401-1] マトリックス投影露光用先端正方形化光ファイバ直線アレイの製作

堀内 敏行1、岩崎 順哉1、渡辺 潤1、鈴木 佑汰1 (1.東京電機大)

キーワード:光リソグラフィ、光ファイバアレイ、投影露光装置

先端を正方形化した光ファイバを密接させて直線状に多数並べ、各々に発光ダイオードやレーザ光源から露光光線を供給して、光ファイバ端の明暗パターンを被露光物上に塗布したレジストに投影露光転写する露光装置を開発中である。そのため、ここでは500μm径の光ファイバ40本の先端を正方形化して配列した長尺アレイを製作した。縦方向が497±3µm、横方向が493±3µmと高精度に製作できた。