2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[20a-B401-1~6] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2018年3月20日(火) 10:30 〜 12:00 B401 (53-401)

山本 治朗(日立)

11:15 〜 11:30

[20a-B401-4] ロール状金型表面への格子パターンの描画

〇(M2)高野 雄太1、谷口 淳1 (1.東理大基礎工)

キーワード:ロールトゥロールナノインプリントリソグラフィ、ロールモールド、電子ビームリソグラフィ

本研究室では、ロール基板上に塗布した樹脂を、基板を回転させながら電子ビームによって直接露光する技術を開発した。そして、回転方向に対して平行な100 nm以下のドットやライン&スペースパターンの作製方法に成功した。しかし、格子などの複雑なパターンに必要な回転方向に対して垂直なパターンの作製をまだ試みていなかった。本研究では、電子的手法と機械的手法を用いて、2つの角度から格子パターンの描画を試みた。