2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[20a-C102-1~12] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2018年3月20日(火) 09:00 〜 12:15 C102 (52-102)

近松 彰(東大)

09:30 〜 09:45

[20a-C102-3] VO2の金属-絶縁体転移を用いたシリコン導波路光スイッチ

渋谷 圭介1、渥美 裕樹1、吉田 知也1、榊原 陽一1、森 雅彦1、澤 彰仁1 (1.産総研)

キーワード:二酸化バナジウム、金属絶縁体転移、光スイッチ

VO2は室温以上(約67 °C)で金属-絶縁体転移を示す物質である。転移温度近傍において赤外領域の光学定数が劇的に変化することから、光学デバイスへの応用が期待されている。しかしながら、VO2の消衰係数は比較的大きいために、VO2を光伝搬層として使用した場合には伝搬損失が大きくなるという課題がある。そこで本研究では、VO2をシリコン導波路のクラッドとして使用することにより、上述の課題解決した光学デバイスの作製を試みた。