[20a-C103-1~11] 6.4 薄膜新材料

[20a-C103-1] CNPを被覆したガラス基板上への結晶化YSZ薄膜の室温堆積

〇堀田 將¹、柳生 瞳²、能木 雅也² (1.北陸先端大、2.阪大産研)

キーワード：セルロースナノペーパー、イットリア安定化ジルコニア、スパッタリング

セルロースナノペーパ(CNP)上へのPoly-Si TFT作製を目指して、Si薄膜の結晶化誘発用YSZ薄膜をスパッタ法で室温堆積を試みた。スパッタ中に基板が過剰に加熱されると、CNPは熱劣化しやすく、逆に、熱劣化を抑えるためにパワーを下げると、結晶化膜が得られ難い。そこで、基板と試料ホルダー間に放熱グリスを塗り込んで堆積中の昇温を低減したところ、CNPの熱劣化無しで、結晶化YSZ薄膜を堆積できた。