2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

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[20a-C103-1~11] 6.4 薄膜新材料

2018年3月20日(火) 09:00 〜 12:00 C103 (52-103)

松田 晃史(東工大)

11:45 〜 12:00

[20a-C103-11] 積層型FTO膜におけるヘイズ率の制御と色素増感太陽電池への応用

采女 敬史1、佐藤 純1、奥谷 昌之1 (1.静岡大院工)

キーワード:FTO、透明導電膜、色素増感太陽電池

本研究グループは、FTO透明導電膜のヘイズ率をパラメータとした入射光の有効利用による色素増感太陽電池(DSSC)の高効率化を検討している。従来のFTO透明導電膜は、光透過性に優れるが、表面形態が平滑でヘイズ率が低く、光吸収でロスが大きかった。本研究では、従来のFTO膜の上に、凹凸の大きな表面形態のFTO層を積層した二重層構造を作製し、FTO膜の高ヘイズ化とDSSCの電池特性の最適化を行った。