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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[20a-C103-1~11] 6.4 薄膜新材料

2018年3月20日(火) 09:00 〜 12:00 C103 (52-103)

松田晃史(東工大)

10:30 〜 10:45

[20a-C103-7] 複合成膜装置によって成膜されたSiO₂光学薄膜の機械的特性

〇増山賢二¹、井原鈴歌¹、都野義樹¹、室谷裕志¹ (1.東海大院工)

キーワード：光学薄膜、低屈折率、摩耗試験