2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[20a-C103-1~11] 6.4 薄膜新材料

2018年3月20日(火) 09:00 〜 12:00 C103 (52-103)

松田 晃史(東工大)

11:15 〜 11:30

[20a-C103-9] スパッタリング法による金属薄膜成膜時のRHEED振動の観察

小島 泰介1、柳原 英人1 (1.筑波大)

キーワード:スパッタリング法、反射高速電子線回折、層状成長