The 65h JSAP Spring Meeting, 2018

Presentation information

Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[20a-C204-1~12] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

Tue. Mar 20, 2018 9:00 AM - 12:15 PM C204 (52-204)

Masanori Shinohara(Natl. Inst. of Tech.,Sasebo Col.)

9:00 AM - 9:15 AM

[20a-C204-1] Reduction of tarnished silver by Ar/H2 plasma and in-situ optical emission spectroscopy

〇(M1)Masaaki Tsukamoto1, Kei Hosomi1, Katsumi Takahiro1, Fumitaka Nishiyama2, Shin Yokoyama2 (1.Kyoto Inst. Technol., 2.Hiroshima Univ.)

Keywords:silver corrosion, reduction, mixed plasma

銀は硫化水素や塩素ガスなど腐食性ガスとの反応により表面が変色し腐食が進行する。
アルゴンプラズマに曝露することで硫化銀が金属銀へ還元することはすでに報告されているが、その還元機構はいまだ明確ではない。
本研究はプラズマによる還元の主因を明らかにするため、腐食した銀試料をアルゴン/水素ガスによるプラズマに曝露し、曝露中のプラズマ発光分光を行うとともに、プラズマ曝露前後の銀試料の表面組成変化を調査した。