[20a-C204-1~12] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[20a-C204-3] プラズマ支援反応性パルスDCスパッタリングによるC軸配向窒化アルミニウム薄膜の形成

〇竹中 弘祐¹、吉谷 友希¹、内田 儀一郎¹、節原 裕一¹ (1.阪大接合研)

キーワード：窒化アルミニウム、スパッタリング