2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.6 IV族系化合物(SiC)

[20a-D103-1~11] 15.6 IV族系化合物(SiC)

2018年3月20日(火) 09:00 〜 12:00 D103 (56-103)

黒木 伸一郎(広島大)

11:00 〜 11:15

[20a-D103-8] 低温局所DLTS法による伝導帯近傍の界面準位分布の可視化 (2)

阿部 貴之1、山岸 裕史1、長 康雄1 (1.東北大通研)

キーワード:界面準位、SNDM、DLTS

SiO2/SiC界面欠陥のうち伝導帯端近傍に高密度で分布する欠陥がMOSデバイス実用化の妨げになっている。界面準位密度分布を2次元的に評価可能な局所DLTS法を低温で行い、Si面、C面共により浅い準位が多く分布することを確認した。また、容量特性を評価可能なSNDM法を同時に行い、低温で2次元分布の相関が強くなること、及びSNDM像にも界面準位の影響が含まれることを考察した。