2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[20a-E202-1~10] 15.4 III-V族窒化物結晶

2018年3月20日(火) 09:00 〜 11:45 E202 (57-202)

石井 良太(京大)、谷川 智之(東北大)

09:00 〜 09:15

[20a-E202-1] GaN単結晶における光励起キャリアの空間的不均一と内部量子効率の関係(1)

浅井 栄大1、小島 一信2、福田 浩一1、秩父 重英2 (1.産総研、2.東北大多元研)

キーワード:GaN、内部量子効率、キャリアの拡散

本研究ではGaNの内部量子効率(IQE)と少数キャリア濃度の不均一分布の関係を解析的な手法により調べる。まず少数キャリア濃度の分布について計算し、解析解がTCADシミュレーションの結果と良く一致する事を示す。更に、この解析的なキャリア分布を用いて、キャリアの拡散と光の自己吸収を考慮したIQEの解析的な式を検討する。