2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[20a-E202-1~10] 15.4 III-V族窒化物結晶

2018年3月20日(火) 09:00 〜 11:45 E202 (57-202)

石井 良太(京大)、谷川 智之(東北大)

11:15 〜 11:30

[20a-E202-9] その場観察X線回折測定を用いたAlGaN/GaNヘテロ構造評価

石原 和弥1、金山 亮介1、平子 涼1、岩谷 素顕1、竹内 哲也1、上山 智1、赤崎 勇1,2 (1.名城大理工、2.名古屋大)

キーワード:その場観察X線回折測定、窒化アルミニウムガリウム

HEMT構造やGaN系のLEDのクラッド層に用いられるAlGaN/GaNヘテロ構造を高品質化することは、これらの素子の高効率、高輝度化に向けて必要不可欠である。本研究グループでは、その場観察X線回折測定の半値全幅の変化により、ミスフィット転位による緩和過程を報告してきた。本発表では、実験値とフィッティング関数の誤差を表すχ2パラメータを導入、CLやTEMの結果と比較を行い、より詳しい緩和過程の解析を行った。