2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

9 応用物性 » 9.2 ナノワイヤ・ナノ粒子

[20a-F104-1~8] 9.2 ナノワイヤ・ナノ粒子

2018年3月20日(火) 09:30 〜 11:30 F104 (61-104)

深田 直樹(物材機構)

09:45 〜 10:00

[20a-F104-2] ホウ素とリンを同時ドープしたシリコン量子ドットの成長機構

南 晶子1、﨑山 真1、山村 昌敬1、杉本 泰1、藤井 稔1 (1.神戸大工)

キーワード:シリコン量子ドット、ドーピング、ラマン散乱