2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[20p-B401-1~12] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2018年3月20日(火) 13:00 〜 16:15 B401 (53-401)

山口 徹(NTT)、谷口 淳(東理大)

15:30 〜 15:45

[20p-B401-10] Direct Imprinting and Electrical Properties of ITO Precursor Gel

〇(D)Puneet Jain1、Kenichi Haga1、Eisuke Tokumitsu1 (1.JAIST)

キーワード:Direct thermal Imprinting, Indium Oxide

nano-Rehology (n-RP) is a direct thermal imprinting technique and deforms oxide precursor gel without photoresist. n-RP enables the deformation of sub-100 nm patterns by utilizing the rheological properties of an oxide precursor gel. In this work, we study how addition of tin (Sn) to pure indium oxide (In2O3), affects the direct imprinting and electrical properties of pure In2O3.