2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[20p-B401-1~12] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2018年3月20日(火) 13:00 〜 16:15 B401 (53-401)

山口 徹(NTT)、谷口 淳(東理大)

14:00 〜 14:15

[20p-B401-5] 反応性密着層修飾シリカ表面間での親油性モノマーのナノ流動性

伊東 駿也1、粕谷 素洋1、栗原 和枝2、中川 勝1 (1.東北大多元研、2.東北大未来科学技術共同研究センター)

キーワード:光ナノインプリント、反応性密着層、モノマー粘度増加

近年、我々はバルク粘度10 mPa·sの親油性モノマー, 1,10-decanediol diacrylateの粘度が親水性シリカ表面間では表面間距離D ≤ 6 nmで増加することを明らかにした。このモノマー粘度増加は光ナノインプリントにおけるin-liquid状態でのモールド-基板間の位置合わせ (アライメント) を困難にすると考えた。本研究では、基板側の表面修飾に用いられる反応性密着単分子層表面間での親油性モノマーAC10の流動性を評価し、密着層のモノマー粘度への影響を検討した。