[20p-B401-1~12] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[20p-B401-8] 金スプリットリングナノ共振器配列体の作製に向けたリフトオフ併用光ナノインプリントリソグラフィ

〇上原 卓也^1,2、Calafiore Giuseppe²、Dhuey Scott²、Cabrini Stefano²、中川 勝¹ (1.東北大多元研、2.Molecular Foundry, LBNL)

キーワード：スプリットリング共振器、リフトオフ、光ナノインプリントリソグラフィ

線幅50 nm, ギャップ幅40 nmを有する金のスプリットリング共振器(SRR)配列体は可視光領域の磁場成分と応答を示すことが報告されている。光ナノインプリントリソグラフィによる金SRR配列体の作製を実現することで、光メタマテリアルの大面積作製や新奇光学素子への展開が期待される。本研究では、リフトオフ法を併用した光ナノインプリントリソグラフィによる50ナノメートルサイズ金SRR配列体の作製を検討した。