2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

21 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[20p-E201-1~11] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2018年3月20日(火) 13:00 〜 16:00 E201 (57-201)

大島 孝仁(佐賀大)、尾沼 猛儀(工学院大)

15:15 〜 15:30

[20p-E201-9] 常温常圧におけるGa2O3:Co微結晶の合成

築野 晃1、渡辺 直樹2、首藤 健一1,2、向井 剛輝1,2 (1.横浜国大院工、2.横浜国大理工)

キーワード:酸化ガリウム、ワイドギャップ半導体、ナノ結晶

Ga2O3結晶は通常、高温あるいは高圧下で合成される。Ga2O3を針状のナノ結晶化することによりP型化するとの研究報告がある。またCoの添加により、Ga2O3のバンドギャップが制御できるとの研究報告がある。本研究ではCoを添加したGa2O3結晶を常温常圧において合成し、製造されたナノ結晶の基本的な物性を評価した。