PDF ダウンロード スケジュール 11 いいね! 0 コメント (0) 14:30 〜 14:45 [20p-F214-5] Sn 添加Ge/絶縁基板の固相成長に与えるSi 下地層挿入効果:キャリア移動度の向上機構 〇徐 暢1、高 洪ミョウ1、杉野 貴之1、宮尾 正信1、佐道 泰造1 (1.九大院システム情報) キーワード:半導体