[20p-P4-1~40] 8 プラズマエレクトロニクス（ポスター）

[20p-P4-16] 斜め堆積反応性スパッタリング法により形成される離散的柱状構造に対する基板形状の影響

〇(M1)泉澤 宏樹¹、井上 泰志²、高井 治³ (1.千葉工大院、2.千葉工大、3.関東学院大)

キーワード：反応性スパッタリング、斜め堆積法