[20p-P4-1~40] 8 Plasma Electronics（Poster）

[20p-P4-8] Preparing of functional thin films by plasma process using powder oxcide target I

〇Hiroharu Kawasaki¹, Tamiko Ohshima¹, Yoshihito Yagyu¹, Takeshi Ihara¹, Masanori Shinohara¹ (1.Natl Ins Tech Sasebo)

Keywords:Powder target, Oxide powder, Low melting point material

粉体ターゲットとして酸化物粉体を利用することにより、低融点材料でも低コストに機能性薄膜を作製できないかを検討した。SnO2とSiO2の酸化物粉体を混合させたターゲットを利用して作製した薄膜の表面をXPSで解析した結果、薄膜表面のSn/Si組成比は、ターゲットのSnO2/ SiO2混合割合の増加とともに増加することが判った。このことは、低融点材料でも多元素機能性薄膜が作製できる事を示唆している。