2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[20p-P6-1~29] 15.4 III-V族窒化物結晶

2018年3月20日(火) 13:30 〜 15:30 P6 (ベルサール高田馬場)

13:30 〜 15:30

[20p-P6-10] 等方性黒鉛基板へのGaN成長

井上 崇1、桟敷 剛2、細川 敏弘1、大國 友行1、岡野 寛2 (1.東洋炭素(株)、2.香川高専)

キーワード:窒化ガリウム、等方性黒鉛、ロッキングカーブ測定

等方性黒鉛基板の表面では,黒鉛の六角網面 002面が様々な方向に配向していると考えられる。このような,ランダム配向した六角網面を持つ等方性黒鉛上では,単一の結晶面を持つサファイアとは異なった,特徴的で興味深いGaN試料が得られると考え,GaN膜の成長を試みた。
XRDおよびPL測定でGaN結晶の成長を確認した。当日はロッキングカーブ測定などの結果も示し、等方性黒鉛上のGaNの特長について考察する。