[18a-F211-1~8] 8.3 Plasma nanotechnology

△ [18a-F211-5] Synthesis of zinc oxide thin film by radical assisted mist CVD using atmospheric pressure plasma jet

〇Asahi Kani¹, Keigo Takeda¹, Mineo Hiramatsu¹ (1.Meijo Univ.)

Keywords:zinc oxide, atmospheric pressure plasma jet, mist chemical vapor deposition

本研究では、ミスト化学気相堆積法の成膜反応場に大気圧プラズマジェットによって生成されるラジカルを供給することで成膜温度の低減に加え、合成される薄膜の高品質化に繋がるのではないかと期待した。今回、大気圧プラズマジェット(APPJ）を用いた酸素ラジカル供給により膜に与える影響を検討した。