[18a-N304-1~8] 3.7 Laser processing

[18a-N304-6] Time-resolved simultaneous measurement of reflected light and plasma emission during laser processing with arbitrary-waveform nanosecond pulses

〇(M2)Tsubasa Endo¹, Shuntaro Tani¹, Yohei Kobayashi¹ (1.ISSP, Univ. Tokyo)

Keywords:laser processing, nanosecond pulses, plasma emission

短パルスレーザー加工におけるエネルギーの時空間ダイナミクスを明らかにするため，レーザーパルス光強度，加工試料表面からの反射光強度，プラズマ発光強度を同時に時間分解測定する系を構築し，任意波形ナノ秒パルスレーザー加工系を用い，様々なパルス形状に対して反射光およびプラズマ発光の時間波形を測定した。