[18p-PA4-1~25] 6.2 Carbon-based thin films

[18p-PA4-6] Analysis of bonding states of a-CN_x:H thin flims produced from the microwave plasma CVD of the C₆H₆-N₂ gas mixtur

〇Atsushi Kanade¹, Haruhiko Ito¹ (1.Nagaoka Univ. of Tech)

Keywords:Plasma CVD, amorphous, carbon nitride

C₆H₆-N₂混合気体のマイクロ波プラズマCVDにおいて、C₆H₆の分圧を十分に抑制することで[N]/([N]+[C])=0.39~0.50の高い窒素含有率を有する水素化アモルファス窒化炭素(a-CN_x:H)薄膜が得られることが先行研究により明らかになっている。本研究では、さらに詳細な結合状態の解析を行うために窒素導入量を変化させた時の窒素含有率と結合状態の変化について調査を行った。薄膜はXPS、FT-IR、ラマン散乱分光とGD-OESによる構造解析を行った。