[19a-E205-1~12] 3.6 Ultrashort-pulse and high-intensity lasers

[19a-E205-3] Development of a plasma shutter applicable to 100-mJ-class, 10-ns laser pulses and the characterization of the residual field intensity

Je Hoi Mun^1,2, Shinichirou Minemoto¹, 〇Hirofumi Sakai¹ (1.Univ. of Tokyo, 2.Inst. Basic Science)

Keywords:plasma shutter, molecular alignment and orientation, ultracold molecules

100 mJクラス、10 nsレーザーパルスに適用可能なプラズマシャッターを開発し、残留電場強度を評価した。実験では、ナノ秒パルスをOCS分子に照射して、立下り150 fsで急峻に遮断した後の配列のダイナミクスを観測した。観測された回転周期を数値計算の結果と比較することにより、残留電場強度は、実質的に無視できること（ピーク強度の0.4%未満であること）、したがって、配列・配向のダイナミクスに全く影響を及ぼさないことを明らかにした。