The 80th JSAP Autumn Meeting 2019

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Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.3 Oxide electronics

[19a-E311-1~8] 6.3 Oxide electronics

Thu. Sep 19, 2019 9:30 AM - 11:45 AM E311 (E311)

Yasuo Nara(兵庫県立大学)

9:30 AM - 9:45 AM

[19a-E311-1] Reversible insulator-to-metal transition in YOxHy epitaxial thin films by UV-laser irradiation

〇(M2)Yuya Komatsu1, Ryota Shimizu1,2, Kazunori Nishio1, Masahiro Miyauxhi1, Wilde Markus3, Katsuyuki Fukutani3, Taro Hitosugi1 (1.Tokyo Tech, 2.JST-PRESTO, 3.U Tokyo)

Keywords:photochromism, yttrium oxy-hydride, insulator-to-metal transition

イットリウム酸水素化物(YOxHy)は光照射により透過率・導電率変化するフォトクロミズムを示し、調光材料や光センサへの応用が期待されている。我々はエピタキシャル化により既存の光センサに匹敵する3桁の抵抗変化を報告したが、高強度・短波長光を用いた効率的なキャリア生成は未達成である。本研究ではYOxHyエピタキシャル薄膜に対し紫外レーザを照射したところ、可逆的な絶縁体-金属転移を見出したため報告する。