[19a-PB3-1~25] 13.8 光物性・発光デバイス

[19a-PB3-25] ナノサイズのレーザ照射痕によるシリコン表面の反射抑制

坂手 俊介¹、鈴木 智貴¹、〇斉藤 光徳¹ (1.龍谷大理工)

キーワード：シリコン表面、光透過率、レーザアブレーション

Si表面に波長532nmのレーザパルスを200nmごとに照射し、幅600nm、間隔2~4μmの線状アブレーション痕を形成した。赤外透過スペクトルを測定すると、線配列に垂直な偏光では波長6μm以上で元のSi板より高い透過率が得られ、散乱のある短波長域でもピークが現れた。表面プラズモンが関与する光干渉が起こると推定され、表面を伝搬する光の干渉を理論計算すると、実験結果と一致する波長特性が得られた。