[19p-E304-1~13] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

[19p-E304-13] Cleanroom-Free Environment-Control System PLAD for Minimal fab (Ⅳ)

〇Takashi Yajima^1,2, Noriko Miura², Masaharu Yasui^1,2, Sommawan Khumpuang^1,2, Hitoshi Maekawa^1,2, Shiro Hara^1,2 (1.AIST, 2.MINIMAL)

Keywords:minimal fab

ミニマルファブの前室システムであるPLADのクリーン化とガス遮断を行う、差圧制御・気体循環システムを開発してきた。このシステムをミニマル集光加熱炉に搭載し、窒素環境下でシリコンウエハを高温加熱した時の、ウエハ上に形成される酸化膜厚を評価した。その結果、PLADの窒素環境コントロールシステムを集光加熱炉に適用した場合は、現状の達成残留酸素濃度でほぼ十分であることが分った。